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產(chǎn)品|公司|采購|招標(biāo)

scia Systems離子束蝕刻系統(tǒng)scia Mill 150

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱天津瑞利光電科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號sciaMill15
  • 所  在  地天津市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2025/6/27 8:52:16
  • 訪問次數(shù)48
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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天津瑞利光電科技有限公司成立于2016年,公司專注于引進國外前沿光電技術(shù)及*光電產(chǎn)品,為國內(nèi)科學(xué)研究與工業(yè)應(yīng)用提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)。目前,瑞利光電已與來自歐洲、美國、以色列、日本等地的多家光電產(chǎn)品生產(chǎn)廠家建立了密切的合作關(guān)系,產(chǎn)品包括各類激光器、激光加工機器、光學(xué)檢測設(shè)備、光學(xué)測量與分析儀器、精密定位及光學(xué)平臺、光學(xué)元件等。我們擁有一支成熟的專業(yè)化團隊,相關(guān)人員知識經(jīng)驗豐富,近年來,得益于人才隊伍建設(shè)和科學(xué)管理實踐,我們的技術(shù)服務(wù)水平和業(yè)務(wù)拓展能力日益精進,與多個高校和科研機構(gòu)的合作伙伴關(guān)系不斷深化,公司規(guī)模和業(yè)務(wù)范圍持續(xù)擴大,公司競爭力顯著增強,在太陽能、半導(dǎo)體、生物醫(yī)療、材料加工、光通訊、國防工業(yè)、科學(xué)研究等各類*制造與科研領(lǐng)域創(chuàng)造了大量的業(yè)績,為客戶輸送了眾多高技術(shù)含量、高質(zhì)量、高精度、高可靠性、高穩(wěn)定性的產(chǎn)品,同時提供了安裝、調(diào)試、培訓(xùn)、方案研究、集成開發(fā)等綜合技術(shù)服務(wù),因此,瑞利也得到了來自全國客戶的廣泛贊譽和認可。光電科技領(lǐng)域的*技術(shù)和產(chǎn)品對推動我國工業(yè)發(fā)展和提升科研實力起到了至關(guān)重要的作用。瑞利光電始終以“引進高、精、尖技術(shù)和產(chǎn)品,助力中國實現(xiàn)強國夢”為使命。我們奉行信義為根,嚴(yán)謹(jǐn)為本,精益求精,行思行遠的經(jīng)營宗旨,力求通過自身的創(chuàng)新發(fā)展為客戶持續(xù)創(chuàng)造價值,為產(chǎn)業(yè)升級,科技強國貢獻力量。
產(chǎn)品介紹sciaMill150專為構(gòu)造各種材料的復(fù)雜多層而設(shè)計
scia Systems離子束蝕刻系統(tǒng)scia Mill 150 產(chǎn)品信息
產(chǎn)品介紹

scia Mill 150 專為構(gòu)造各種材料的復(fù)雜多層而設(shè)計。憑借其反應(yīng)氣體兼容性,該系統(tǒng)還能夠以增強的選擇性和速率進行反應(yīng)蝕刻工藝。由于其節(jié)省空間的設(shè)計,scia Mill 150 非常適合小規(guī)模生產(chǎn)和研發(fā)應(yīng)用。

性能特點
  • 蝕刻角度可通過可傾斜和可旋轉(zhuǎn)的基板支架進行調(diào)整
  • 無需整形器即可實現(xiàn)好的均勻性
  • 使用反應(yīng)氣體增強選擇性和速率
  • 使用準(zhǔn)確的 SIMS 或光學(xué)終點檢測進行過程控制
  • 載體概念可適應(yīng)各種基板尺寸
  • 由于良好的晶圓冷卻,可使用光刻膠掩模處理晶圓
技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)地:德國

基片尺寸(max):直徑150 mm。

基片支架:水冷,氦氣背面冷卻接觸,基片旋轉(zhuǎn)1至20 rpm,可原位傾斜0°至165°,步長0.1°

離子束源:190 mm圓形微波ECR源(MW218-e)

中和器:三重等離子橋中和器(N-3DC)

射頻等離子橋中和器(RF-PBN)

基準(zhǔn)壓力:< 5 x 10-7 mbar

系統(tǒng)尺寸(寬x深x高):1.90 m x 1.80 m x 1.75 m(不含電氣架)

配置:單腔,可選單基片負載鎖,可選OES或SIMS終點檢測

軟件接口:SECS II / GEM,OPC

典型去除率:SiO2:30 nm/min

均勻性變化:≤3 %(σ/平均值)

產(chǎn)品應(yīng)用

磁存儲器 (MRAM) 和傳感器 (GMR、TMR) 的結(jié)構(gòu)化

MEMS 生產(chǎn)中的金屬銑削 (Au、Ru、Ta 等)

不同金屬和介電材料多層的銑削

化合物半導(dǎo)體 (GaAs、GaN、InP 等) 的化學(xué)輔助離子束蝕刻 (CAIBE)

三維光電微結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)

用于降低微觀粗糙度的離子束平滑

用于光柵 (SiO2) 圖案轉(zhuǎn)移的反應(yīng)離子束蝕刻 (RIBE)

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