大連力迪流體控制技術有限公司作為thyraconts代理，誠摯為各位提供德國thyracont全系列產品。

一、Thyracont品牌核心優(yōu)勢

德國Thyracont成立于1970年，50余年專注真空測量技術創(chuàng)新，以高精度、耐用性及智能化為核心競爭力。其產品融合傳統(tǒng)工藝與現(xiàn)代技術，例如微型Pirani螺旋絲和寬量程組合傳感器，已成為行業(yè)標準。大連力迪代理德國thyracont皮拉尼真空計

真空度控制與鍍膜質量的關系

l 薄膜均勻性

1. 精度不足的影響：若真空計測量誤差較大（如±10%），實際真空度可能偏離設定值，導致氣體分子密度波動。例如，在磁控濺射中，殘留氣體分子會干擾濺射原子沉積，造成膜層厚度不均（局部厚度偏差可達±15%）。

2. 案例：在光學鍍膜中，真空度波動會導致折射率一致性下降，影響濾光片的通帶特性。

l 薄膜附著力與致密性

1. 高真空要求：磁控濺射需維持10?1–10?3 Pa的高真空環(huán)境，若真空計精度低導致實際壓力過高（如實際為10?2 Pa但顯示為10?3 Pa），濺射原子能量不足，膜層與基片結合力弱，易剝落。

2. 反應鍍膜風險：在反應磁控濺射（如TiN）中，真空度偏差可能引起反應氣體比例失調，生成非化學計量比化合物（如TiOxNy），降低膜層硬度。

l 薄膜純度與缺陷控制

1. 雜質污染：低精度真空計無法及時檢測真空系統(tǒng)泄漏或泵效下降，導致背景氣體（如H?O、O?）殘留，污染薄膜。例如，半導體器件中的柵氧化層（SiO?）若含氧雜質，擊穿場強會顯著降低。

2. 顆粒污染：真空度不足時，殘余氣體分子與濺射原子碰撞產生二次濺射，形成微米級顆粒附著，影響薄膜表面粗糙度（Ra值增加至10 nm以上）。

二、真空計類型與精度匹配

1. 電阻真空計（皮拉尼規(guī)）

精度范圍：±5%~±15%（10?1–10?2 Pa）。

適用場景：中真空鍍膜（如蒸發(fā)鍍膜），但對氣體種類敏感（需校準修正系數(shù)）。

局限性：高溫下熱絲氧化導致零點漂移，需定期維護。

2. 電容薄膜規(guī)

精度范圍：±0.5%~±2%（1–1000 Pa）。

適用場景：低真空預抽階段（如鍍膜前腔體清潔），抗污染能力強。

優(yōu)勢：直接測量絕對壓力，無需氣體校準。

3. 電離真空計（熱陰極/冷陰極）

精度范圍：±1%~±5%（10?3–10?? Pa）。

適用場景：高真空至超高真空工藝（如離子鍍、ALD）。

風險：冷陰極規(guī)在高壓（>10?2 Pa）下易損壞，需與機械泵聯(lián)動保護。

針對鍍膜所需的真空度范圍我們將主要是在磁控濺射設備以及離子鍍膜設備大連力迪代理德國thyracont皮拉尼真空計推廣thyracont的VSM冷陰極和VSH熱陰極符合真空規(guī)

VSM77/VSM78;Cold cathode / Pirani, 1000-5e-9 mbar, metal sealed, DN25KF

VSH87/VSH88: Hot cathode / Pirani, 1000-5e-10 mbar, metal sealed, DN25KF