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昆山琦凡精密儀器有限公司
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閱讀：68發(fā)布時間：2026-1-9
晟鼎小講堂 | 從硅片到電池片，看看等離子清洗技術(shù)如何用？
硅基光伏電池片制程
Silicon-based photovoltaic cell process
從硅片到電池片：
以目前主流的單晶硅PERC電池制作流程為例，從硅片到電池片大概要經(jīng)歷：
→清洗制絨
→擴散制結(jié)
→刻蝕&去磷硅玻璃
→PECVD
→印刷電極&燒結(jié)
→分選測試/檢驗入庫
而在清洗、制絨、刻蝕、PECVD等環(huán)節(jié)，均可使用晟鼎等離子清洗機，下面我們來看具體的應(yīng)用。
— Silicon-based photovoltaic cell process —
PART TWO
等離子在電池片工藝中的應(yīng)用
Application of Plasma in Battery sheet
01
清洗與制絨
在清洗與制絨工藝環(huán)節(jié)，一般是用堿性或酸性腐蝕液進行濕式化學(xué)清洗，制絨效果不僅受多因素影響，且多孔硅結(jié)構(gòu)松散不穩(wěn)定，具有較高表面復(fù)合率。
等離子清洗機處理方案：
使用離子體的高速粒子轟擊電池片表面，可將絨面處理的更加細致有序，表面結(jié)構(gòu)也更加穩(wěn)定，減少復(fù)合中心的產(chǎn)生；還可同時清除材料表面的指紋油污，減少濕式處理的烘干環(huán)節(jié)。
02
刻蝕&去磷硅玻璃
在上道擴散工藝中，PN結(jié)的正面所收集到的光生電子會沿著邊緣擴散有磷的區(qū)域流到PN結(jié)的背面，從而造成短路。因此，必須對太陽能電池周邊的摻雜硅進行刻蝕，以去除電池邊緣的PN結(jié)。
通常采用等離子刻蝕技術(shù)完成這一工藝。等離子體可以通過粒子吹掃將多余擴散的磷分解，從而達到去除PSG的目的。
03
PECVD
為了減少表面反射,提高電池的轉(zhuǎn)換效率,需要沉積一層氮化硅減反射膜。
工業(yè)生產(chǎn)中常采用PECVD設(shè)備制備減反射膜，PECVD即等離子增強型化學(xué)氣相沉積，它是利用低溫等離子體作能量源，產(chǎn)品置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電使產(chǎn)品升溫到預(yù)定的溫度，然后通入適量的反應(yīng)氣體SiH4和NH3，氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng)，在產(chǎn)品表面形成固態(tài)薄膜即氮化硅薄膜。
— Application of Plasma in Battery sheet —
PART THREE
晟鼎等離子清洗機
SINDIN Plasma Cleaning Machine
01
大氣等離子清洗機
適用于光伏玻璃、電池片、背板、框架等部件的清洗活化，可搭配直噴或旋轉(zhuǎn)槍頭，可定制大氣等離子流水線設(shè)備。
02
寬幅等離子清洗機
適用于光伏玻璃、電池片、背板等部件的清洗活化，可客制化寬幅線性等離子流水線設(shè)備。
03
真空等離子清洗機
適用于面積較大、形狀復(fù)雜的材料清洗，可搭配多路工藝氣體，可客制真空等離子流水線設(shè)備。
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