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上海百賀儀器科技有限公司
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產(chǎn)品型號EVO MA 10/LS 10
品 牌
廠商性質(zhì)其他
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更新時間:2023-09-15 08:40:48瀏覽次數(shù):233次
聯(lián)系我時,請告知來自 重工機械網(wǎng)MA10用于材料領(lǐng)域,LS10用于生命科學(xué)領(lǐng)域
MA 10用于材料領(lǐng)域,LS 10用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級的物鏡設(shè)計,提供高低真空成像功能,可對各種材料表面作分析,并且具有業(yè)界的X射線分析技術(shù)。革命性的Beamsleeve的設(shè)計,確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像,同時還可以進行準確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動控制。標準的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護)成像分析。
其電子光學(xué)前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)和ZEISS。1965年推出一臺商業(yè)化掃描電鏡;1985年推出一臺數(shù)字化掃描電鏡。
一、蔡司掃描電子顯微鏡EVO MA 10/LS 10用途
掃描電鏡廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。
二、掃描電子顯微鏡(蔡司)技術(shù)參數(shù)
1、分辨率:2.0nm @ 30KV(SE with Lab6 option) 3.0nm @ 30KV(SE and W) 4.5nm @ 30KV(VP with BSD)
2、加速電壓:0.2—30KV
3、放大倍數(shù):7—1000000x
4、視野范圍:6mm
5、X-射線參數(shù):8.5mm WD,35度接收角
6、壓力范圍:10—400Pa(LS10:10-3000Pa)
7、工作室:310mm(φ)×220mm(h)
8、5軸優(yōu)中心自動樣品臺:X=80mm Y=100mm Z=35mm T=0-90°R=360°
9、試樣高度:100mm 試樣直徑:200mm
10、系統(tǒng)控制:基于Windows XP 的SmartSEM
三、掃描電子顯微鏡(蔡司)主要特點
1、可變壓力下操作
2、大移動平臺
3、快速抽真空
4、未來的保證,可升級為水蒸氣擴展圖像
5、高亮度LaB6資源選擇
6、光線套選擇
四、蔡司掃描電子顯微鏡技術(shù)優(yōu)勢
1、通過網(wǎng)絡(luò)可遠程控制
2、可移動大平臺
3、通用圖像處理
4、改進了低真空圖像
5、X-射線分析技術(shù)
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