伯東貿(mào)易（深圳）有限公司
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詳細(xì)摘要： 一般使用寬束的工業(yè)用KRI離子源，都會(huì)使用中和器來達(dá)到使用激發(fā)電子中和離子的目的。常用來做中和器的像是熱燈絲，電漿橋，或是中空陰極。圖
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：深圳市更新時(shí)間：2023-04-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計(jì)離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內(nèi), ...
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詳細(xì)摘要： KRI Ion Source 應(yīng)用領(lǐng)域：無柵極等離子源技術(shù)----End-Hall 離子/等離子源有柵極離子源技術(shù)----RFICP 離子源----DC 離子源...
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詳細(xì)摘要： 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供中空陰極 e-Mission Hollow Cathodes 結(jié)構(gòu)緊湊, 重量輕, 可以安裝在離子源或真空系統(tǒng)的側(cè)面, 相...
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詳細(xì)摘要： 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供多個(gè)類型的低能量高密度的電子源, 從簡單的熱電子燈絲模式到中空陰極模式,典型應(yīng)用在等離子和離子工藝中的陰極和陽極中和器, ...
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詳細(xì)摘要： RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中，射頻離子源 RFICP 140 配有...
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詳細(xì)摘要： KRI 線性離子源使用標(biāo)準(zhǔn)的端部霍爾模組并使設(shè)備的需求簡化, 一個(gè)低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋...
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詳細(xì)摘要： 尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6"放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體
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詳細(xì)摘要： 上海伯東美國 KRI 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長! 射頻源 RF...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：深圳市更新時(shí)間：2023-01-17 在線留言
詳細(xì)摘要： 上海伯東美國進(jìn)口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.
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詳細(xì)摘要： 美國 KRI 霍爾離子源 eH 系列緊湊設(shè)計(jì), 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等級(jí)的細(xì)微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面...
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詳細(xì)摘要： KRi 射頻離子源 RFICP 220上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 射頻離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. ...
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詳細(xì)摘要： 上海伯東美國 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計(jì), 柵極口徑 38cm, 提供離子動(dòng)能 100-1200eV 寬束離子束, 套裝包含離...
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詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制...
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詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國 進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗...
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詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 考夫曼型離子源 RFICP 100 緊湊設(shè)計(jì), 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設(shè)計(jì)但是可以輸出 400 mA 離子流. 考夫曼...
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詳細(xì)摘要： 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個(gè)陰極燈絲, 其中一個(gè)作為備用,KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 12...
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詳細(xì)摘要： 離子源 RFICP 40 設(shè)計(jì)采用創(chuàng)新的柵極技術(shù)用于研發(fā)和開發(fā)應(yīng)用. 離子源 RFICP 40 無需電離燈絲設(shè)計(jì), 適用于通氣氣體是活性氣體時(shí)的工業(yè)應(yīng)用. 標(biāo)準(zhǔn)...
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詳細(xì)摘要： KDC 10 離子源低損傷, 寬束設(shè)計(jì), 低成本等優(yōu)點(diǎn)廣泛應(yīng)用在顯微鏡領(lǐng)域, 標(biāo)準(zhǔn)配置下 KDC 10 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：深圳市更新時(shí)間：2023-01-17 在線留言
詳細(xì)摘要： . 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預(yù)清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體,...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：深圳市更新時(shí)間：2023-01-17 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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