「設(shè)備主要用途」
廣泛用于制備難熔金屬納米粉體、氧化物、氮化物、碳化物等納米粉體，及上述粉末球化
處理;
「技術(shù)指標(biāo)」
①極限真空度：7.0x10-1Pa；
②達(dá)到極限真空時(shí)間：≤ 30 分鐘
（從大氣開始抽真空*限）。
③自動(dòng)加料器進(jìn)料速率；0.1Kg-0.7Kg/ 小時(shí)；連續(xù)可控；
④射頻電源；2-3MHz，60KW（輸出）
「設(shè)備構(gòu)成」
由真空獲得測量、氣體循環(huán)系統(tǒng)、三路充氣系統(tǒng)（帶流量控制）、自動(dòng)加料系統(tǒng)、射頻電
源及射頻等離子體發(fā)生器系統(tǒng)、粒徑控制系統(tǒng)、三級旋風(fēng)粉體收集系統(tǒng)、真空手套箱、自動(dòng)控
制系統(tǒng)、冷卻水循環(huán)及安全控制系統(tǒng)組成。
「應(yīng)用實(shí)例」
①純金屬、稀有金屬鎢、鉬等平均納米直徑20-75 納米；
②金屬化合物（氮化鈦、碳化鎢、氧化鋁等）平均納米直徑20-100 納米。