主要用途：

　　本設備可以在不破壞真空或是保護氣氛的情況下進行樣品的反轉熔煉，可以同時制備多個樣品(7個以下)，用于新型合金材料的制備、提純及混合應用，也可以用于熔煉高熔點金屬/合金，電弧法制備大塊非晶材料。本設備采用雙層水冷結構，配備水冷循環(huán)機(加去離子水)使設備可以快速冷卻，適用于高校、科研院所及企業(yè)進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

　　系統(tǒng)組成:

　?、僭O備前門尺寸Φ120mm，在前門上開CF35觀察窗，方便觀察電極奇虎狀態(tài);

　?、谠谇皇疑喜吭O前后觀察窗，方便觀測起熔狀態(tài);

　　③真空室、銅坩堝、電極均采用水冷方式進行冷卻;

　?、茈姌O采用方向盤式設計，轉動靈活，360度;

　?、菰O備配有機械手，在不破壞氣氛或真空條件下可進行多次熔煉，使材料融合更更均勻;

　　⑥坩堝尺寸及數(shù)量可根據(jù)客戶要求靈活定制，數(shù)量最多不超過七個，坩堝直徑25mm，坩堝數(shù)量越少，坩堝直徑可適當增大;

　?、咄獠坎捎肔ED照明，避免了以往真空腔體內部使用烘烤燈出現(xiàn)的污染和易損壞、不方便維護缺陷;

　?、嗳蹮挏囟瓤蛇_到4000℃，對大部分金屬都可以進行熔煉;

　　⑨具備吸鑄功能，使融化材料能直接成型;

　?、馕≯釄迥＞唠p層水冷結構，可以對材料迅速淬冷。

　　技術指標：

　　主要由真空獲得及測量系統(tǒng)，電弧熔煉、工作氣路、水冷系統(tǒng)、電控系統(tǒng)及安裝機臺等組成。

　　電弧熔煉室:立式圓筒型真空室，尺寸φ300mmX320mm

　　真空系統(tǒng)配置:機械泵、分子泵

　　極限壓力 (Pa):電弧熔煉室≤6.67x10-4Pa

　　電弧熔煉電流:長期工作電流200-600A

　　熔煉坩堝 　　有五個工位 (半球窩SR25) ，

　　四個熔煉合金工位

　　一個熔煉除氣工位。

　　一個吸鑄工位，帶模具體，可根據(jù)老師要求定制 一個電磁攪拌工位

　　熔煉樣品重量 (以鐵標定) 30克。

　　電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧。

　　價格：

　　19.85萬元，含稅及運費。