一、富勒烯，碳納米烯，石墨烯制備專用真空電弧爐設(shè)備用途 ：

　　用于富勒烯，碳納米烯，石墨烯等納米材料的研發(fā)制備生產(chǎn)等使用，也廣泛應(yīng)用于熔煉高熔點金屬/合金，以及材料的提純等用于熔煉高熔點金屬/合金，以及材料的提純等

　　二、富勒烯，碳納米烯，石墨烯制備專用真空電弧爐主要技術(shù)參數(shù)：

　　1、型號：KDH-2000

　　2、電弧熔煉室：臥式圓筒型真空室

　　3、真空系統(tǒng)配置：由2X-30旋片式機械泵、TK-200擴散泵、三臺高真空閥門和各種管路組成高真空系統(tǒng)真空度可達6.7*10-3pa

　　4、冷態(tài)極限真空度≤6.7x10E-3Pa

　　5、自耗電流：額定電流2000A

　　6、熔煉工位：兩工位安裝在同一真空腔室，可獨立工作

　　7、工作氣體：Ar氣；

　　8、電極升降方式：伺服電動升降

　　9、電極升降速度：慢速升降速度：0~60mm/min

　　快速升降速度：0-300mm/min

　　10、引弧方式：高頻引弧

　　11、爐體側(cè)部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，爐體上有兩個觀察視窗。可清楚看到爐內(nèi)工作情況，

　　三、富勒烯，碳納米烯，石墨烯制備專用真空電弧爐設(shè)備組成：

　　主要由電弧熔煉真空室、熔煉電極組件、真空系統(tǒng)，及電氣控制系統(tǒng)、安裝機臺等各部分組成。

　　1、電弧熔煉真空室：真空室臥式圓筒形設(shè)計，結(jié)構(gòu)簡介美觀，側(cè)部開有標準快接接口，用于真空系統(tǒng)及輔助測量原件的安裝，真空腔室兩側(cè)可開門，爐門上安裝有清掃小爐門。爐門和小爐門均采用水冷結(jié)構(gòu)。爐體的正前方有兩個觀察視窗，可以清楚的看到爐內(nèi)的工作情況。底部留有一物料收集接口，接口采用采用標準快接方式，保持引出口為水平方式，方便物料收集。真空腔室制作全部采用外壁304不銹鋼內(nèi)層316L不銹鋼水夾層結(jié)構(gòu)，外部拉絲拋光，內(nèi)部鏡面拋光處理。

　　2、電弧槍及電弧槍升降裝置：電弧槍采用水冷設(shè)計，可耐高溫，同時頭部快捷螺紋安裝設(shè)計，便于更換自耗物料。上部密封采用波紋管密封設(shè)計。兩套電極升降采用伺服電動升降，由伺服電機減速機組成，速度范圍寬，運行平穩(wěn)。

　　3、水冷銅電極：銅電極采用紫銅材料水冷設(shè)計，具有可靠的導(dǎo)電性，又可及時冷卻，保證電極持續(xù)工作。

　　4、電控系統(tǒng)：電器元器件均采用西門子施耐德等品牌，配有PLC+觸摸屏，所有的動作控制都有PLC來完成，觸摸屏上可直觀顯示各個部件的運行情況，真空數(shù)據(jù)，升降速度位移等可記錄可保存。所有的操作都在觸摸屏上完成，自動化程度高。

　　真空系統(tǒng)及測量：真空系統(tǒng)采用兩級泵由2X-30旋片式機械泵、TK-200擴散泵、三臺高真空閥門和各種管路組成高真空系統(tǒng)真空度可達6.7*10-3pa

　　采用氣動模式，真空測量采用復(fù)合真空計，測量數(shù)顯顯示，帶通訊模式。

　　5、電弧電源：采用電弧爐專用電弧電源