氫氣還原爐
氫氣還原爐用途:
氫氣還原爐主要是用于半導體材料、納米材料、光線材料、銅粉,鈷粉,鎳粉,鎢粉,鉬粉,鎢粉等在各種氣體保護下的各種復雜工藝,使物料與氫氣充分混合,氣體保護升溫、保溫、降溫,具有多種工藝氣體的流量控制。是科研、教學、生產(chǎn)、新材料研發(fā)的重要設備,廣泛適用于化工、電子、冶金、能源等行業(yè)領域。
氫氣還原爐特點:
1、能使物料充分與氫氣混合,使得物料縮短還原時間,節(jié)約大量氫氣(因為氫氣與物料充分混合)。
2、在物料還原結(jié)束后,可根據(jù)物料的特性在不同氣氛中快速或慢速降溫。
3、用工業(yè)微機對工藝時間、溫度、氣體流量、閥門動作、反應室壓力實現(xiàn)自動控制。
4、采用進口壓力控制系統(tǒng),閉環(huán)控制,穩(wěn)定性高。
5、采用進口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門,確保氣路氣密性。
6、具有*的報警功能及安全互鎖裝置。
7、具有良好的人機界面,靈活的工藝性能。
氫氣還原爐主要技術(shù)參數(shù):
1、控制精度:±1℃
2、爐溫均勻度:±3℃(根據(jù)加熱室大小而定)。
3、微電腦控制,操作方便,可編程,自動升溫、自動保溫、自動降溫。
4、爐腔采用烏鉬材料或根據(jù)物料特性選擇材料。
5、不銹鋼金屬法蘭密封(雙膠圈)。
6、爐體溫度接近室溫。
7、雙回路保護。
8、隔熱材料選用烏鉬,保溫性能好,耐溫高,清潔,降溫快。
9、可通多種氣體(氮氣、氬氣、氫氣等)。
改進創(chuàng)新:
1、可連續(xù)運行,連續(xù)工作,節(jié)約電能。
2、專用設備對爐內(nèi)提供N2/H2氣體保護。
3、高溫區(qū)長達2米,直徑1.5米額定溫度可達到1700℃。
4、只需一人操作,即可完成生產(chǎn)全過程。




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