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MEB 550SL3超高真空多腔體電子束蒸鍍系統(tǒng)

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公司名稱(chēng)上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司
品牌
型號(hào)
所在地上海
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2022/8/27 9:37:16
訪問(wèn)次數(shù)412

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司是一家專(zhuān)業(yè)從事高性能薄膜沉積及處理設(shè)備、光電材料及軟件、金剛石合成及應(yīng)用、激光等離子體仿真和診斷等產(chǎn)品及服務(wù)進(jìn)口的技術(shù)貿(mào)易服務(wù)型公司。公司至今已與法國(guó)、德國(guó)、英國(guó)、瑞士、意大利、美國(guó)、加拿大、日本、俄羅斯等國(guó)家的多家企業(yè)建立了戰(zhàn)略合作關(guān)系，并服務(wù)于國(guó)內(nèi)從事微電子、半導(dǎo)體、光學(xué)、納米技術(shù)等領(lǐng)域的研究所和大學(xué)。公司從事領(lǐng)域及產(chǎn)品主要包括：加速器質(zhì)譜儀：第三代14C加速器質(zhì)譜儀系統(tǒng)（AMS），包括全套可兼容第三代石墨化系統(tǒng)AGE3、氣動(dòng)壓樣裝置PSP、鐵制分配器FED、管密封裝置TSE、氣體電離探測(cè)器GID、氣體接口系統(tǒng)GIS、碳酸鹽處理系統(tǒng)CHS、同位素比質(zhì)譜儀IRMS。薄膜制備及處理：磁控濺射儀（magnetron sputtering system）、電子束蒸鍍?cè)O(shè)備(E-beam Evaporation system)、離子束濺射沉積(IBS system)、化學(xué)束外延鍍膜(CBE/GSMBE)、分子束外延設(shè)備(MBE)、離子減薄儀(Ion Milling)、超高真空多功能鍍膜設(shè)備、高精密光學(xué)鍍膜設(shè)備(Optical Coating system)、刻蝕機(jī)（RIE, RIEB）、超導(dǎo)約瑟夫森結(jié)制備(Josephson Junction, Qubits)；金剛石制備及應(yīng)用：納米晶金剛石制備設(shè)備、熱絲化學(xué)氣相沉積（HFCVD）、CVD單晶金剛石合成設(shè)備、CVD光學(xué)級(jí)金剛石窗口合成、微波等離子化學(xué)氣相沉積（MPCVD）、工具級(jí)金剛石涂層制備（tool coating）、金剛石單晶/多晶摻雜（single crystal diamond and doping）、CVD金剛石單晶及其應(yīng)用、高溫高壓金剛石單晶（HPHT diamond）、金剛石拋光設(shè)備（diamond polishing）、激光切割設(shè)備（laser cutting）、鉆石凈度及切工評(píng)定儀器；高能密度物理：輻射流體力學(xué)模擬、原子光譜分析軟件、多維碰撞輻射軟件、三維熱輻射CAD軟件、狀態(tài)方程和不透明度、原子物理數(shù)據(jù)庫(kù)；微波干涉儀、金剛石靶丸、超高功率輸出窗口；激光器與設(shè)計(jì)：固體激光器設(shè)計(jì)軟件(Solid-state Laser)、光纖激光器設(shè)計(jì)軟件(Fiber laser)、半導(dǎo)體激光器設(shè)計(jì)軟件(Semiconductor laser)、激光鏡面鍍膜設(shè)備(Lasers coating system)、高功率激光輸出窗口(High power output window)、高功率激光熱沉片(Heat Sink)、高功率鉆石激光器(Diamond Laser)、金剛石窗口鍍?cè)鐾改?AR coating service)；

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質(zhì)譜儀

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MEB 550SL3超高真空多腔體電子束蒸鍍系統(tǒng)

MEB 550SL3超高真空多腔體電子束蒸鍍系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

關(guān)鍵詞：磁控濺射、電子束蒸鍍、超高真空、鍍膜、約瑟夫森結(jié)、超導(dǎo)、量子器件、量子比特、

多腔體、Qubit、UHV、鈮基超導(dǎo)、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、sputtering system

Evaporation system、Nb-based superconductor、超導(dǎo)鋁結(jié)、Josephson junction

型號(hào)：MEB 550SL3 產(chǎn)地：歐洲應(yīng)用：約瑟夫森結(jié)（Al, Nb, NbN, NbTiN）

超高真空多腔體電子束蒸發(fā)鍍膜儀

電子束蒸鍍儀是納米器件制備中的儀器，用于蒸鍍各種高純金屬薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。電子束蒸發(fā)沉積法可在同一蒸發(fā)沉積裝置中安裝多個(gè)坩堝，使得可以蒸發(fā)和沉積多種不同的高質(zhì)量金屬薄膜。開(kāi)展量子計(jì)算機(jī)實(shí)驗(yàn)研究，如基于金剛石NV色心，離子阱，超導(dǎo)量子結(jié)，量子點(diǎn)電子自旋的研究，均需要蒸鍍各種高質(zhì)量金屬薄膜來(lái)制備量子器件，特別是在利用超導(dǎo)量子結(jié)來(lái)實(shí)現(xiàn)量子計(jì)算的實(shí)驗(yàn)研究中，Josephson結(jié)的制備關(guān)鍵：需要在非常干凈的蒸鍍腔里進(jìn)行，而且需要在不同的角度上蒸鍍兩次，兩次之間需要注入氧氣進(jìn)行金屬氧化。所以樣品臺(tái)必須具有三維的旋轉(zhuǎn)功能，同時(shí)，蒸鍍腔內(nèi)還需要有可以注射氧氣及其他氣體來(lái)實(shí)現(xiàn)清潔和氧化過(guò)程。

推薦配置：可以用于沉積Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金屬及氧化物薄膜，目前主要超導(dǎo)量子實(shí)驗(yàn)室均使用該設(shè)備制備超導(dǎo)Al結(jié)（量子比特和約瑟夫森結(jié)）和量子器件，可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復(fù)性超導(dǎo)結(jié)。更詳細(xì)信息或資料，請(qǐng)咨詢我們！

典型用戶：耶魯大學(xué)、日本NTT、中科院下屬研究所等

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